韩国知识产权厅(KIPO)与《中央日报》为鼓舞发明者士气、在全国范围内营造发明创新氛围，并提升韩国产业的技术竞争力、促进国民经济发展，实施了“专利技术奖”制度，从在知识产权厅注册的优秀发明中遴选项目并予以表彰。
　　PART 01
　　申请对象
　　在由韩国国民在韩国国内注册且目前有效存续的发明专利(实用新型)中，须为每年4月1日之前完成设定注册，并符合下列任一条件：
　　自各申请基准日起10年以内（即2016年4月1日以后）完成设定注册的发明专利（实用新型）；
　　为实施专利发明，需依据《药事法》或《农药管理法》取得许可或完成注册，且在取得该等许可或注册过程中需要进行有效性、安全性等试验的发明，并在10年以内（自2016年4月1日起）已实现产品上市的发明等。
　　PART 02图片申请时间及申请方法
　　申请时间：2026.04.01~2026.06.30
　　申请方法：KIPO官网申请，具体链接如下。
　　https://www.patent.go.kr/smart/jsp/kiponet/mp/patentprize/abs.do?
　　所需材料：
　　1)专利技术奖申请书（推荐书）
　　2）有关发明的说明内容
　　3）专利技术奖推荐发明的内容
　　PART 03图片评选过程
　　PART 04图片奖项设置
　　领域：专利·实用新型
　　奖项名称：世宗大王奖（1项）、忠武公奖（1项）、池锡永奖（2项）、洪大容奖（4项）
　　奖金：世宗大王奖1,500万韩元，忠武公奖1,000万韩元，池锡永奖每项500万韩元，洪大容奖每项200万韩元
　　※若评选审议委员会认为候选作品不适合获得专利技术奖，可授予鼓励奖（奖金50万韩元），或不评选当年度专利技术奖。
　　PART 05图片获奖作品支持
　　通过韩国知识产权厅官网及《中央日报》纸面等渠道，对获奖者及获奖作品进行宣传
　　为获奖作品的商业化与营销提供获奖标识（鼓励奖除外）
　　在专利基础商业化研发项目、优秀发明品优先采购推荐项目等发明激励项目的支持对象选拔中给予优先待遇
　　以上符合条件的申请者快快加入申请吧！
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